Ref.: MmeFsu22-005
Apresentador: ANTHUNES ÃKARO DE ARAÚJO
Autores (Instituição): DE ARAÚJO, A.Ã.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Costa, T.H.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Feitor, M.C.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); da Silva, L.C.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); LINHARES, Ã.A.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Neves, I.B.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Lima, L.L.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Libório, A.F.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); Costa, B.T.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte); de Oliveira, E.S.(Universidade Federal do Rio Grande do Norte);
Resumo:
O estudo aborda a deposição de filmes finos de carbono em forma de diamante (DLC) em aço AISI 4340 por meio de tratamento termoquÃmico, utilizando a deposição por plasma pela técnica cilindros catódicos (CCyPD) em um reator de deposição. Essa abordagem, uma derivação da técnica de gaiola catódica, concentra-se na utilização dos cilindros que são acoplados na tampa da gaiola, os quais são produzidos com o material desejado para o filme. O objetivo primordial é depositar filmes finos com propriedades mecânicas, como alta dureza superficial e baixo coeficiente de atrito, comparando a variação de temperatura entre os experimentos realizados. No estudo, amostras de aço AISI 4340 foram submetidas a tratamentos de deposição por cilindros catódicos (CCyPD), em potencial flutuante, com atmosfera de gás acetileno, utilizando as temperaturas de 350°C, 400°C e 450°C ao longo de um perÃodo de 4 horas. O cilindro empregado foi fabricado com pó de grafite e compactado com uma carga de 2 toneladas. As caracterizações dos filmes finos depositados, foram realizadas por Espectroscopia Raman, Difração de Raio-X, teste de dureza e ensaios de desgaste pino-sobre-disco. Os resultados indicaram que o aumento da temperatura resultou nas melhores propriedades encontradas no experimento, alcançando as caracterÃsticas do filme de carbono em forma de diamante (DLC). Houve uma redução significativa no coeficiente de atrito, atingindo valor de 0.073, e aumento da dureza superficial, alcançando valor de 25 GPa. Portanto, a deposição por plasma pela técnica de cilindros catódicos (CCyPD) possibilitou a deposição de filmes finos com as melhores caracterÃsticas de filme DLC no substrato de AISI 4340, com a temperatura de 450°C.